半導体ドライエッチングプロセス用ガス開発

【求人No NJB2241330】
■担当業務：
半導体ドライエッチング用ガス開発としてエッチング評価および顧客への提案業務に携わっていただきます。

■具体的な担当業務
当社では、半導体デバイス製造工程におけるプロセス課題を解決できる新規ガスをエッチングレシピとセットで半導体メーカに提案していくビジネスモデルへの転換を進めています。入社後は、これまでの経験・スキルを活かして最先端エッチング装置を用いたエッチング処理、各種分析機器を用いたプラズマ診断、SEMによる加工形状観察を実施し、プロセス条件およびプラズマ診断結果から加工形状を予測する回帰モデル構築という一連の新規ガス開発業務に従事頂きます。将来的には、評価対象ガスの提案、テーマの取りまとめを行うリーダーとして成長して頂くことを期待しています。

■使用ツール：ドライエッチング装置、プラズマ解析機器、表面分析、観察機器。

■ポジション・立場：総勢14名、平均年齢20歳代の若いチームの中で、エッチング技術者として活躍を期待します。産産、産学連携も積極的に実施しており、外部の専門家と関わる機会も多いです。

【必須条件】下記いずれかのご経験をお持ちの方（複数ご経験されている方は尚可）
クイーン カジノ 初回 ボーナスを用いた実務経験3年以上。
・デバイス要求を満たすエッチング条件を構築した経験を有する。
クイーン カジノ 初回 ボーナスの原理を理解し、操作することができる。

【歓迎条件】
・各種測定器（断面SEM、膜厚測定器）、表面分析装置（XPS、FTIR）、
　プラズマ 診断装置（各種プローブ、発光分光装置、質量分析計）の原理を理解し測定できる。
・エッチングプロセスを扱える人材を育成及び指導した経験がある。

【尚可】
■専攻学科：電気、電子、情報工学系、化学系
■資格：高圧ガス製造保安責任者、特定高圧ガス取扱主任者